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臺(tái)積電2022年量產(chǎn)3nm工藝 比原計(jì)劃提前一年

雖然半導(dǎo)體工藝提升越來(lái)越困難,但是被譽(yù)為天字一號(hào)代工廠(chǎng)的臺(tái)積電,這幾年卻仿佛打了雞血,進(jìn)展神速,讓Intel、三星都望塵莫及。

現(xiàn)在,臺(tái)積電7mm工藝已經(jīng)大范圍普及,幾乎成為旗艦?zāi)酥林髁餍酒臉?biāo)配,率先應(yīng)用EUV極紫外光刻的第二代7nm+也已經(jīng)規(guī)模量產(chǎn),并得到了華為麒麟990 5G等的采納,下一站自然就是5nm,而再往后就是3nm,甚至規(guī)劃好了2nm。

臺(tái)積電早就多次重申,會(huì)在明年開(kāi)始量產(chǎn)5nm,而根據(jù)臺(tái)積電晶圓廠(chǎng)業(yè)務(wù)高級(jí)副總裁JK Wang的最新說(shuō)法,臺(tái)積電會(huì)在2022年開(kāi)始3nm工藝的規(guī)模量產(chǎn)。

注意,臺(tái)積電說(shuō)的是大規(guī)模批量生產(chǎn)3nm,也就是可以滿(mǎn)足多家客戶(hù)、不同產(chǎn)品的上市需求,代表工藝無(wú)論產(chǎn)量還是良品率都會(huì)真正成熟,這是非??膳碌摹?/p>

事實(shí)上,臺(tái)積電原計(jì)劃在2023年量產(chǎn)3nm,現(xiàn)在居然提前了一年。Intel還在掙扎提升10nm,三星7nm也還未完全鋪開(kāi),后續(xù)工藝更是各種“馬甲”。

預(yù)計(jì)華為、蘋(píng)果、賽靈思乃至是AMD等大客戶(hù)都會(huì)快速跟進(jìn)臺(tái)積電3nm,順利的話(huà)2022年晚些時(shí)候的iPhone、Mate手機(jī)都能用上呢。

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責(zé)任編輯:Rex_01

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