11 月 16 日消息據韓國媒體上周報道，韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪一家企業(yè)，合理推測應指代韓國整個半導體光刻產業(yè)。
EUV 光刻技術是多種先進技術的復合體，例如多層反射鏡，多層掩模，防護膜，光源和注冊表(registries)。
在過去的十年中，包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發(fā)，以確保技術處于領先地位。最近，代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術來生產智能手機的應用處理器(AP)。
按公司劃分，全球六大公司的專利申請數占了總數的 59%，卡爾蔡司(德國)占 18%，三星電子(韓國)占 15%，ASML(荷蘭)占 11%，S&S Tech(韓國)占 8%，臺積電(臺灣)為 6%，SK 海力士(韓國)為 1%。
從具體的技術項目來看，曝光裝置技術申請專利占 31%，掩膜技術申請專利占 28%，其他申請專利占 9%。在工藝技術領域，三星電子占 39%，臺積電占 15%。在光罩領域，S&S 科技占 28%，Hoya(日本)占 15%，漢陽大學 (韓國)占 10%，朝日玻璃 (日本)占 10%，三星電子占 9%。
IT之家了解到，韓媒還提到了韓國專利數量，據韓國知識產權局 (KIPO)發(fā)布的《近 10 年 (2011-2020 年)專利申請報告》顯示，2019 年，韓國提交的專利申請數量為 40 件，超過了國外企業(yè)的 10 件。
韓媒稱這是韓國提交的專利申請量首次超過國外企業(yè)。到 2020 年，韓國提交的專利申請也將是國外企業(yè)申請的兩倍以上。
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